产品介绍
宏策光电193nm激光增透膜专为深紫外光刻及准分子激光系统设计，采用特殊抗紫外材料，在193nm处实现高透射与极低残余反射。膜层致密、耐高能辐照、抗激光损伤阈值高，能有效抑制杂散光干扰并降低光路能量损耗。适用于高功率脉冲深紫外激光环境，保障透镜、窗口等透射元件长期稳定运行。
应用场景
用于193nm准分子激光光刻、晶圆检测、深紫外光谱分析及精密微细加工系统中的透射元件，实现高效深紫外透射。
产品参数
| 基 板 | 石英、氟化钙CaF2等材质 | 尺 寸 | 客户定制 |
| 光 谱 |
垂直入射，T>98%@193nm | 阈 值 | >3J/cm2@193nm |
测试曲线
苏公网安备:12345号
