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0°-193nm激光高反膜
    发布时间: 2026-05-13 16:28    

宏策光电0°-193nm激光高反膜专为深紫外光刻及准分子激光系统设计，在193nm波长、0°正入射下实现极高反射率与极低吸收损耗。采用特殊抗紫外介质材料，膜层致密、耐高能辐照、抗激光损伤阈值高，可有效承受高功率脉冲深紫外激光的长期辐照。适用于需要高效正反的深紫外光路系统，保障反射性能稳定可靠。

0°-193nm激光高反膜

产品介绍

宏策光电0°-193nm激光高反膜专为深紫外光刻及准分子激光系统设计，在193nm波长、0°正入射下实现极高反射率与极低吸收损耗。采用特殊抗紫外介质材料，膜层致密、耐高能辐照、抗激光损伤阈值高，可有效承受高功率脉冲深紫外激光的长期辐照。适用于需要高效正反的深紫外光路系统，保障反射性能稳定可靠。

应用场景

用于193nm准分子激光光刻、深紫外激光谐振腔及晶圆检测系统中的反射镜，实现0°正入射下的高效深紫外反射。

产品参数

基  板石英、氟化钙CaF2等材质尺  寸客户定制
光  谱

0°入射，R>98%@193nm

阈  值

>1J/cm2@193nm

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