产品介绍
宏策光电45°-193nm激光高反膜专为斜入射深紫外光路设计，在193nm波长、45°入射角下实现极高反射率与极低吸收损耗。采用特殊抗紫外介质材料，膜层致密、耐高能辐照、抗激光损伤阈值高，可有效承受高功率脉冲深紫外激光的长期辐照。适用于需要45°折转反射的深紫外光路系统，保障光路稳定高效运行。
应用场景
用于193nm准分子激光光刻、深紫外光路折转系统及晶圆检测设备中的反射镜，实现45°斜入射下的高效深紫外反射。
产品参数
| 基 板 | 石英、氟化钙CaF2等材质 | 尺 寸 | 客户定制 |
| 光 谱 |
45°入射，R>96%@193nm | 阈 值 | >1J/cm2@193nm |
测试曲线
苏公网安备:12345号
