Zr系滤光片在13.5nm波段透过率高,同时抑制非目标波段,材料耐高温、抗辐射损失,适合长期科研及量产设备使用。
EUV光刻:作为极紫外光源的选择性透过元件,提升曝光精度。
自由电子激光(FEL):用于波段选择和光束诊断。
天文观测:用于极紫外波段成像或光谱分析,提升信噪比。
同步辐射设施:在X射线和极紫外光束线中用于精确波段选择。
透过率@13.5nm≥35%